制作人 : 欧丁玉 作词 : 陈少琪 作曲 : 李偲菘 编曲 : David Garfield 近日像每样话题总不适合你 近日夜深相聚 飘起一抹冷漠空气 在这天 是你事无大小多么生气 谁人亦可知你将别离 落寞地躺在睡床试试抱紧你 但是目光躲避 令我可感到你在喘气 没说出 亦领会谁在撩动你 抛开苦痛去解脱自己 让你那些冷却热情另有生机 离开我以后我会习惯自卑 明天再偶遇我也不敢偷望你 离开我以后季节冷暖天气 我也置诸不理 愿名字也再不记起 离开我以后我会长留这地 晨早到午夜扑进漆黑想念你 离开我以后醉了会看到你 梦中方可永久地 接近你 oh----- 伴着但我在预期你会说舍弃 问事实怎躲避 在倒数将要每日想你 若这刻 若最后无力留下你 将消失勇气释放自己 就算某天我吻别人亦当亲你 离开我以后我会习惯自卑 明天再偶遇我也不敢偷望你 离开我以后季节冷暖天气 我也置诸不理 愿名字也再不记起 离开我以后我会长留这地 晨早到午夜扑进漆黑想念你 离开我以后醉了会看到你 梦中方可永久地 离开我以后我会习惯自卑（接近你） 明天再偶遇我也不敢偷望你 离开我以后季节冷暖天气 我也置诸不理 愿名字也再不记起 离开我以后我会长留这地 晨早到午夜扑进漆黑想念你 离开我以后醉了会看到你 梦中方可永久地 接近你 oh----- 和声 :  Dorcas Kwok/金培达/郑中基 键盘 : David Garfield OP : Music & Melody Publishing SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd. 贝斯 : Jimmy Johnson 录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong) 混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong) 鼓 : Carlos Vega 钢琴 : Randy Waldman 电吉他 : Michael Landau 录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera 混音师 : Mick Guzauski 录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read